Cible en titane
Aperçu des cibles en titane
Les cibles en titane sont fabriquées à partir de titane de haute pureté. Elles présentent un aspect blanc argenté brillant, un point de fusion de 1 660 °C, un point d'ébullition de 3 287 °C et une densité de 4,5 g/cm³. La pureté des cibles en titane est généralement de 4N5 à 5N (99,995 % à 99,999 %).
Les cibles en titane constituent un matériau important, principalement utilisé dans la fabrication de composants de haute technologie tels que les semi-conducteurs, l'optoélectronique et les matériaux magnétiques.
Dans l'industrie des semi-conducteurs, les cibles en titane servent à fabriquer des composants électroniques tels que des photodiodes, des corps de photodiodes, des photorécepteurs et des émetteurs-récepteurs, etc. Dans le domaine de l'optoélectronique, elles servent à fabriquer des dispositifs optoélectroniques tels que des LED et des cellules solaires, etc. Dans le domaine des matériaux magnétiques, elles servent à fabriquer des disques durs et des cartes magnétiques, etc.
Outre les applications mentionnées ci-dessus, les cibles en titane sont également largement utilisées dans les alliages haute température, les matériaux conducteurs et la chimie. Catalyseurs, dispositifs médicaux, etc.
Ces domaines exigent non seulement des matériaux à haute résistance et résistants à la corrosion, mais aussi des propriétés chimiques stables et une bonne biocompatibilité.
Les cibles en titane répondent précisément à ces exigences et sont devenues un matériau essentiel dans ces domaines.
Les cibles de pulvérisation cathodique en titane haute performance constituent un levier important pour la recherche et le développement indépendants de matériaux clés dans l'industrie de la fabrication de produits électroniques et pour la transformation et la modernisation de l'industrie du titane vers des technologies de pointe.
Flux de production des cibles en titane
A. Procédé de préparation du matériau cible
La matière première des blocs cibles en titane, le titane spongieux, doit subir le processus de purification suivant :
Chloration : Le titane spongieux réagit avec le chlore à haute température pour former du tétrachlorure de titane.
Réduction : Du titane de haute pureté est produit par réduction au magnésium ou au sodium.
Purification : La fusion sous vide ou la fusion par faisceau d'électrons est utilisée pour éliminer les impuretés et améliorer la pureté du titane métallique.
Fusion sous vide : Le titane est fondu dans un environnement sous vide à haute température, ce qui permet d'éviter efficacement les pores et les inclusions d'oxyde.
Fusion par faisceau d'électrons : Utilisation de faisceaux d'électrons de haute énergie pour éliminer les impuretés à l'état de traces et produire des cibles de titane ultra-pures.
B. Formage et usinage
Le laminage à chaud et le laminage à froid permettent de donner aux matériaux en titane les dimensions et la forme requises.
Le forgeage améliore la résistance mécanique et l'homogénéité interne du matériau cible en optimisant sa structure granulaire.
Le polissage de surface garantit un bon état de surface du matériau cible et réduit les irrégularités lors de la pulvérisation cathodique.
Le traitement de surface (tel que l'élimination de la calamine et le meulage fin) favorise le détachement aisé des particules pulvérisées, améliorant ainsi la qualité du revêtement.
